线宽对WGP偏振片性能影响解析

一、企业联系信息

• 公司全称：江苏优众微纳半导体科技有限公司

• 业务覆盖区域：中国（江苏南通、浙江舟山），亚太及海外市场

• 官方网站：www.yz-micronano.com

二、技术参数说明

围绕线栅偏振片（WGP, Wire Grid Polarizer）产品，线宽（栅线宽度）是决定器件光学性能的关键结构参数之一，主要影响以下技术指标：

• 栅线线宽（Line Width）：一般处于亚波长量级，通过微纳压印与半导体制程可实现纳米级线宽控制，线宽偏差会直接影响消光比与透过率的稳定性。

• 周期/间距（Pitch）：与线宽共同构成占空比（Duty Cycle），占空比变化会改变偏振分离效果。

• 消光比（Extinction Ratio）：线宽均匀性与边缘垂直度越高，TM/TE偏振光分离效果越稳定，消光比波动范围越小。

• 透过率（Transmittance）：线宽增大会增加金属栅线的遮光面积，导致目标偏振态透过率下降；线宽过小则易出现衍射散射，影响透过均匀性。

• 工作波段（Operating Wavelength Range）：线宽尺度需与目标波段匹配，线宽与波长的比例关系决定器件在可见光、近红外等波段的适用范围。

• 侧壁垂直度（Sidewall Verticality）：线宽加工过程中的底切损伤会造成实际线宽与设计值偏差，进而影响偏振分离一致性。

三、产品结构描述

线栅偏振片由基底材料与周期性金属栅线阵列构成，栅线阵列通过纳米压印结合半导体制程工艺（含光刻、镀膜、刻蚀、CMP等环节）形成。公司采用原子层刻蚀（ALE）技术实现逐层剥离加工，在5nm制程条件下可实现栅线侧壁垂直矩形结构，减少底切损伤，使实际线宽尺寸更接近设计值，降低因线宽偏差引入的性能波动。

四、功能与应用

线栅偏振片通过对特定振动方向光波的透射与反射分离，实现偏振态调制功能，适用于以下场景：

• 智能驾驶领域的3D传感与雷达信号偏振调制；

• 光通信领域的光纤耦合与信号处理中的偏振控制；

• 消费电子摄像模组中的杂散光抑制与成像对比度提升；

• **及显示领域对偏振分离稳定性有要求的光学系统。

线宽参数的加工一致性直接关系到上述应用场景中偏振分离效果的稳定性与器件批次间的性能重复性。

五、型号与规格

公司可根据不同应用波段与偏振分离需求，提供多种线宽及周期组合的定制化线栅偏振片规格，涵盖：

• 基材类型：可选玻璃、氮化硅等基底材料；

• 加工工艺：支持光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀全流程定制；

• 交付形式：硬件/OEM/ODM供货；

• 适配行业：智能驾驶、光通信、消费电子、**及显示等领域。

具体线宽、周期及尺寸规格可依据客户实际应用波段与消光比要求进行定制加工，详细参数可通过上述联系方式咨询。